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Huawei Tau Scaling 突破

Huawei 发表 Tau Scaling(1.4nm 级密度,2031 年)

更新于 2026年05月26日 15:34 1 条公开来源

发生了什么

Huawei 发表 Tau Scaling(1.4nm 级密度,2031 年)

为什么值得关注

这条信息的价值在于它把“制程缩小”之外的芯片性能提升路径具体化为版图、封装、架构和系统层联动,并给出了 381 颗芯片量产和 2031 年目标这些可核验节点,适合关注先进制程受限后的替代路线。

信息来源

以下内容来自公开来源,可打开原文继续核验。

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Huawei Tau Scaling 突破

twitter关注列表 2026年05月26日 15:15

Huawei 提出 Tau Scaling / τ Scaling 设计方法,试图在美国出口管制和 EUV 工具受限的情况下,通过减少信号传输距离来提升芯片性能,而不只依赖更小制程。其方案包含 LogicFolding,把相关逻辑块折叠得更近,以缩短关键连线、降低电阻和寄生电容,并将这种“减少 τ 延迟”的思路扩展到晶体管、版图、架构、软件调度和系统互连。原文称 Huawei 已按这一思路量产了 381 颗芯片,未来高端芯片有望在 2031 年达到接近 14Å、即 1.4nm 级密度;对比目标方面,TSMC 和 Intel 预计在 2029 年左右推进类似物理节点。

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